Wafer連接器作為精密電子元件中的關鍵組成部分，其設計特點直接決定了半導體測試、封裝及高密度互連應用的可靠性。這類連接器的核心特征體現在微米級接觸間距的精密制造工藝上，通過光刻或蝕刻技術實現50μm至200μm的極窄間距，確保在有限空間內集成數百甚至上千個獨立觸點。接觸點的鍍層通常采用金鎳合金或鈀鈷等貴金屬材料，既保障了低接觸電阻（通常低于20mΩ），又具備優異的抗腐蝕性能，在高溫高濕環境下仍能保持穩定電氣特性。

在機械性能方面，wafer連接器采用彈性接觸結構設計，如懸臂梁式或雙曲面觸點，配合工程塑料（如LCP或PPS）注塑成型的絕緣體，可實現10萬次以上的插拔壽命。其接觸正壓力嚴格控制在30-100gf范圍內，過大的壓力會導致芯片損傷，過小則影響信號完整性。部分型號還集成有ZIF（零插拔力）機構，通過杠桿或滑塊結構實現接觸點的無應力對接，特別適用于BGA封裝芯片的測試場景。

電氣性能上，wafer連接器支持40GHz的高頻信號傳輸，通過接地屏蔽層和差分對布線設計，將串擾控制在-60dB以下。阻抗匹配精度達到±5Ω，滿足PCIe 5.0、DDR5等高速協議的嚴格要求。部分應用于功率測試的型號可承載15A/觸點的電流，溫升不超過30K。為適應不同測試環境，產品系列通常包含-55℃至+150℃的寬溫域版本，采用特殊合金觸點材料應對熱膨脹系數差異。

在信號完整性管理上，新一代連接器采用嵌入式電容設計，在電源-地引腳間集成去耦電容，將電源阻抗降低至0.1Ω@100MHz。高頻型號通過3D電磁場仿真優化觸點形狀，將回波損耗控制在-25dB以內。